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面向钙钛矿场景推出PVK系列的高性能狭缝涂布设备，适配研发、中试、量产的；具备超高成膜精度、膜层均匀性优异、原材料损耗低、长期运行稳定可靠等核心优势。可提供狭缝涂布主机 + 真空干燥 VCD + 隧道炉等成套解决方案。
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◆超精密膜厚控制：高精度计量泵 + 精密狭缝模头，适配纳米级超薄薄膜；
◆多工艺配方存储：内置多套涂布速度、泵压、间隙参数程序，快速切换ETL、PVK、HTL不同药液工艺。
亮点：
◆ 膜层均匀性优异，大幅提升显示良率 ◆ 材料利用率高，降低耗材成本
◆ 自主国产核心部件，模化量产交付 ◆ 进料方式可选传送或机械手
技术规格参数 | 标准值 |
基板尺寸 | 300×300mm；600×600mm；1200×600mm；1600×1200mm；2400×1200mm |
基板类型 | 玻璃 |
基板厚度 | 1~3.2mm |
上下料方式 | 手动/自动 |
湿膜厚度 | 5~10um |
涂布均匀性 | ≤5% |
涂布有效区 | 除边10mm |
粘度范围 | 1~10cp |
