真空干燥设备(HVCD)


咨询热线:
13556305903

应用领域

◆ 厚膜涂层
◆ 高固含浆料
◆ 高沸点溶剂(DMF/DMSO)



设备特点

设备特点:
◆ 真空 + 梯度加热
◆ 高温深度脱溶
◆ 高速干燥

设备亮点:

◆ 产能大幅提升         ◆ 溶剂残留极低

◆ 厚膜干燥能力强      ◆ 整板一致性好




设备参数

技术规格参数

标准值

HVCD

基板尺寸

310×310mm515×510mm600×600mm

腔体材质

不锈钢或者铝(表面处理)

抽气速率

10s@10Pa(根据客户要求)

蝶阀

进口或者国产优选(根据客户要求)

应对翘曲

7mm

极限真空

1Pa

干泵

进口或者国产优选(根据客户要求)

加热温度

常温~150

温度均匀性

±2

控温方法

PID