真空干燥设备(VCD)


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应用领域

◆ 玻璃
◆ 钙钛矿研发小线
◆ 低沸点易沸溶剂体系



设备特点

设备特点
◆ 常温真空、无加热、慢速温和脱溶、无热应力

设备亮点

◆ 零形变、不伤基材    ◆ 膜面品质极佳

◆ 设备低成本低能耗    ◆ 工艺容错高




设备参数

技术规格参数

标准值

VCD

基板尺寸

G2-G8.6

腔体材质

不锈钢或者铝(表面处理)

抽气速率

10s@10Pa(根据客户要求)

蝶阀

进口或者国产优选(根据客户要求)

应对翘曲

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极限真空

1Pa

干泵

进口或者国产优选(根据客户要求)

加热温度

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温度均匀性

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控温方法

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