首页 >Product Center >平板狭缝涂布系列 >真空干燥设备（VCD）

真空干燥设备（VCD）

本设备专为精密涂布配套工艺打造，可高效实现涂布膜层均匀稳定干燥固化，配套涂布产线实现全流程工艺闭环。

咨询热线：
13556305903

在线客服
应用领域

◆ 玻璃
◆ 钙钛矿研发小线
◆ 低沸点易沸溶剂体系



设备特点

设备特点
◆ 常温真空、无加热、慢速温和脱溶、无热应力

设备亮点

◆ 零形变、不伤基材    ◆ 膜面品质极佳

◆ 设备低成本低能耗    ◆ 工艺容错高




设备参数

技术规格参数

标准值

VCD

基板尺寸

G2-G8.6

腔体材质

不锈钢或者铝（表面处理）

抽气速率

10s@10Pa（根据客户要求）

蝶阀

进口或者国产优选（根据客户要求）

应对翘曲

/

极限真空

≤1Pa

干泵

进口或者国产优选（根据客户要求）

加热温度

/

温度均匀性

/

控温方法

/



上一款产品：

真空干燥设备（HVCD）

 下一款产品：

加热设备（HP/CP）

本设备支持 G2.5~G8.6 大基板，可用于预固化、退火结晶及各类薄膜高温烘烤固化。HP 接近式平面传导加热，分区精密……