首页 >Product Center >平板狭缝涂布系列 >真空干燥设备（HVCD）

真空干燥设备（HVCD）

本设备专为精密涂布配套工艺打造，可高效实现涂布膜层均匀稳定干燥固化，配套涂布产线实现全流程工艺闭环。

咨询热线：
13556305903

在线客服
应用领域

◆ 厚膜涂层
◆ 高固含浆料
◆ 高沸点溶剂（DMF/DMSO）



设备特点

设备特点：
◆ 真空 + 梯度加热
◆ 高温深度脱溶
◆ 高速干燥

设备亮点：

◆ 产能大幅提升         ◆ 溶剂残留极低

◆ 厚膜干燥能力强      ◆ 整板一致性好




设备参数

技术规格参数

标准值

HVCD

基板尺寸

310×310mm；515×510mm；600×600mm

腔体材质

不锈钢或者铝（表面处理）

抽气速率

10s@10Pa（根据客户要求）

蝶阀

进口或者国产优选（根据客户要求）

应对翘曲

≤7mm

极限真空

≤1Pa

干泵

进口或者国产优选（根据客户要求）

加热温度

常温~150℃

温度均匀性

＜±2℃

控温方法

PID



上一款产品：

RnD研发系列平板狭缝涂布机

RnD 研发系列平板狭缝涂布机，采用狭缝定量供料设计，有效节约浆料。设备为一体化单龙门结构，搭载自研核心组件，性价比突出…… 下一款产品：

真空干燥设备（VCD）